檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "蔡明忠".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="光學鄰近修正"
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由於極紫外光微影系統技術尚未廣泛應用,目前生產線上仍大部分為ArF-193nm浸潤式微影系統,因此有許多研究者尋找此系統優化方法,其中可利用光源光罩最佳化程序搜尋最佳的光罩圖案設計與對應的最佳光源模…
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幾十年來半導體工業仰賴微影光學將電路圖案之設計轉印至晶圓基板上,隨著電路設計圖樣日益縮小,目前已逼近至微影製程的光學極限,解析度增強技術(resolution enhancement techniq…